Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «НОВЫЙ СУХОЙ МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ МАСКИРУЮЩЕГО ИЗОБРАЖЕНИЯ (РЕЛЬЕФА) НЕПОСРЕДСТВЕННО В ПРОЦЕССЕ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ РЕЗИСТА, "Микроэлектроника"»

Авторы:
  • Брук М.А.1
  • Жихарев Е.Н.2
  • Кальнов В.А.3
  • Спирин А.В.4
  • Стрельцов Д.Р.5
стр. 331-
Платно
1 Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова, 2 Физико-технологический институт Российской АН, 3 Физико-технологический институт Российской АН, 4 Национальный исследовательский Мордовский государственный университет им. Н.П. Огарева, 5 Национальный исследовательский центр “Курчатовский институт”, Москва
  • В выпуске: №5, 2013, Том 42
  • В журнале: Микроэлектроника
  • Издательство: ФГУП «Издательство «Наука»
  • Рубрика ГРНТИ: Информатика. Информационные и вычислительные системы
  • Год выхода: 2013
Аннотация:
Предложен новый сухой метод электронно-лучевого травления некоторых позитивных резистов непосредственно в процессе экспонирования. Показано, в частности, что экспонирование ПММА-резиста (слой толщиной 80?85 нм на <i>Si</i>-пластине) электронами с энергией 15?20 кэВ в вакууме при температурах 115?170°C (выше температуры стеклования ПММА) приводит к эффективному травлению резиста при сравнительно небольших дозах экспонирования, в 10?100 раз меньших доз экспонирования этого резиста в традиционной “мокрой” литографии. Предполагается, что процесс прямого травления протекает по механизму радикально-цепной деполимеризации ПММА-резиста до мономера. Показана высокая эффективность предложенного метода при формировании в ПММА-резисте пространственных 3D структур.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.  

 

* - цена актуальна только для физических лиц
В т.ч. НДС 20%