Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «VACUUM UNIT WITH ELECTRON-BEAM EVAPORATOR AND VACUUM LOADING OF GROUP SUBSTRATE HOLDERS, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"»

Авторы:
  • Khoshev A.V.1
  • Averyanov E.V.2
  • Odinokov V.V.3
  • Kostyukov D.A.4
  • Ovtsyn A.A.5
стр. 29-33
Платно
1 NIITM, 2 NIITM, 3 NIITM, 4 NIITM, 5 NIITM
Аннотация:
A new vacuum unit (ELU TM 1Sh) with mult-crucible electron beam evaporation (EBE) and lock loading of group substrate holders for 100-150 mm wafers has been developed. The unit is intended mainly for deposition of single-layer or multilayer films in explosive photolithography technology.
Пожалуйста, авторизуйтесь, чтобы получить бесплатный доступ к статье.