Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «КОНФОРМНОСТЬ РОСТА ТОНКИХ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ НА РЕЛЬЕФНЫХ МИКРО- И НАНОСТРУКТУРАХ. Часть 3. Процессы атомно-слоевого осаждения, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"»

Авторы:
  • Васильев В.Ю.1
стр. 26-37
Платно
1 Новосибирский Государственный Технический Университет, кафедра Полупроводниковых приборов и микроэлектроники (ППиМЭ)
Аннотация:
Выполнен обзор информационных источников по результатам многолетних исследований проблемы конформности роста тонких слоев неорганических материалов на рельефных полупроводниковых подложках при химическом осаждении из газовой фазы. В третьей части рассматривается возможность применения количественного подхода автора к оценке конформности роста тонких слоев на рельефах в процессах атомно-слоевого осаждения.
Пожалуйста, авторизуйтесь, чтобы получить бесплатный доступ к статье.