Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ В РЕАКТОРЕ, СОВМЕЩАЮЩЕМ МАГНЕТРОННЫЙ РАЗРЯД И ИНДУКТИВНЫЙ ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ РАЗРЯД ВО ВНЕШНЕМ МАГНИТНОМ ПОЛЕ, "Радиотехника и электроника"»

Авторы:
  • Александров А.Ф.1
  • Вавилин К.В.2
  • Кралькина Е.А.3
  • Неклюдова П.А.4
  • Никонов А.М.5
  • Павлов В.Б.6
  • Айрапетов А.А.7
  • Одиноков В.В.8
  • Павлов Г.Я.9
  • Сологуб В.А.10
стр. 364-371
Платно
1 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования “Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова”, 2 Московский государственный университет им. Ломоносова Открытое акционерное общество “Научно-исследовательский институт точного машиностроения”, 3 Московский государственный университет им. Ломоносова Открытое акционерное общество “Научно-исследовательский институт точного машиностроения”, 4 Московский государственный университет им. Ломоносова Открытое акционерное общество “Научно-исследовательский институт точного машиностроения”, 5 ФБУН “ГНЦ вирусологии и биотехнологии “Вектор”” Роспотребнадзора 630559, п. Кольцово, Новосибирская обл., Россия, 6 Московский государственный университет им. Ломоносова Открытое акционерное общество “Научно-исследовательский институт точного машиностроения”, 7 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования “Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”, 8 ОАО Научно-исследовательский институт точного машиностроения, 9 ОАО Научно-исследовательский институт точного машиностроения, 10 ОАО Научно-исследовательский институт точного машиностроения
Аннотация:
Представлены результаты разработки, создания и оптимизации характеристик плазменного реактора, в состав которого входят вакуумно-дуговой и магнетронный распылительные источники, а также создающий плазму высокой плотности индуктивный высокочастотный (ВЧ) разряд с внешним магнитным полем. Реактор предназначен для нанесения широкого класса функциональных покрытий с ионной стимуляцией. Приведены результаты оптимизации параметров индуктивного ВЧ-разряда, помещенного во внешнее магнитное поле, являющегося источником потока ассистирующих ионов. Показано, что рассмотренный диапазон индукции внешнего магнитного поля соответствует области резонансного возбуждения связанных между собой геликонной и косой ленгмюровской волн. Изучено влияние величины и конфигурации магнитного поля на параметры газоразрядной плазмы и значения ионного тока в области подложки при раздельном и совместном горении магнетронного и индуктивного разрядов. Исследовано воздействие потока ионов, бомбардирующих пленки в процессе их роста, на структуру функциональных покрытий.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.