Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «CVD-технология производства атомных источников тока на основе Ni, "Радиохимия"»

Авторы:
  • Харитонов И. Д.1
  • Мазгунова В. А.2
  • Бабаин В. А.3
  • Костылев А. И.4
  • Меркушкин А. О.5
  • Шемухин А.А.
  • Балакшин Ю.В.6
  • Кожемяко А.В.7
  • Калмыков С.Н.8
  • Магомедбеков Э.П.9
стр. 143-147
Платно
1 Московский государственный университет им. М. В. Ломоносова, 2 Радиевый институт им. В. Г. Хлопина, 3 Радиевый институт им. В. Г. Хлопина, 4 Акционерное общество “Радиевый институт имени В.Г. Хлопина”, 5 Институт материалов современной энергетики и нанотехнологии РХТУ им. Д. И. Менделеева, 6 НИИ ядерной физики им. Д.В. Скобельцына Московского государственного университета им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия, 7 Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова (физический факультет), 8 Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, химический факультет 119991 Москва, Ленинские горы, 1, стр. 3, 9 Производственное объединение “Маяк”, г. Озерск
  • В выпуске: №2, 2018, Том 60
  • В журнале: Радиохимия
  • Издательство: ФГУП «Издательство «Наука»
  • Рубрика ГРНТИ: Химия
  • Год выхода: 2018
  • SDI: 007.001.0033-8311.2018.060.002.5
  • УДК: 541.15+621.039.7
Ключевые слова:
  • атомная батарея
  • никель-63
  • осаждение из газовой фазы
  • тетракис(трифторфос- фин)никель
  • CVD-технология
Аннотация:
Изучены возможности CVD-технологии для производства атомных батарей на основе № формированием активных слоев № на полупроводниковых кремниевых подложках. В качестве летучего исходного соединения использован тетракис(трифторфосфин)никель, синтезированный из металлического № и трифторида фосфора. Получены данные о влияние температуры подложки и рабочего давления на характеристики покрытия из №.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.