Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «СРАВНИТЕЛЬНЫЙ АНАЛИЗ ВЛИЯНИЯ ПАРАМЕТРОВ ВЧ- И ПТ-МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ НА ФОРМИРОВАНИЕ СТРУКТУРЫ ТОНКИХ ПЛЕНОК ДИБОРИДА ТАНТАЛА, "Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования"»

Авторы:
  • Гончаров А.А.1
  • Юнда А. Н.2
  • Бажин А.И.3
  • Шелест И. В.4
  • Буранич В. В.5
стр. 33-37
Платно
1 Институт проблем экологии и эволюции им. А.Н. Северцова РАН, 2 Сумский государственный университет, 3 Донецкий национальный университет, Украина, 4 Сумский государственный университет, 5 Сумский государственный университет
Ключевые слова:
  • магнетронное распыление
  • пленки диборида тантала
  • структура
  • потенциал смещения
  • magnetron sputtering
  • tantalum diboride films
  • structure
  • bias potential
Аннотация:
Проведен сравнительный анализ влияния параметров магнетронного распыления на формирование структуры тонких пленок диборида тантала, полученных при помощи высокочастотной магнетронной распылительной системы и распылительной системы с несбалансированным магнетроном постоянного тока. Показано, что знак и величина напряжения смещения, подаваемого на подложку, значительно влияют на структуру пленок диборида тантала.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.  

 

* - цена актуальна только для физических лиц
В т.ч. НДС 20%