Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «ПРОФИЛЬ, МОРФОЛОГИЯ И ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ ПОВЕРХНОСТИ СКВОЗНЫХ МИКРООТВЕРСТИЙ В КРЕМНИЕВЫХ ПЛАСТИНАХ, "Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования"»

Авторы:
  • Жуков А.А.1
  • Заботин Ю. М.2
  • Подгородецкий С. Г.3
  • Ануров А. Е.4
стр. 38-43
Платно
1 Национальный исследовательский Томский политехнический университет, 2 АО “Российские космические системы”, 3 АО “Российские космические системы”, 4 АО “Российские космические системы”
Ключевые слова:
  • бош-процесс
  • реактивное ионное травление
  • интегральные схемы
  • полиимид
  • положительный клин травления
  • сквозные микроотверстия в кремнии
  • Bosсh process
  • reactive ion etching
  • integrated circuits
  • polyimide
  • positive etching wedge
  • through microholes in silicon
Аннотация:
Методами оптической и растровой электронной микроскопии, энергодисперсионной спектроскопии и оптической профилометрии исследованы микропрофиль, элементный состав и положительный клин травления сформированных в ходе бош-процесса сквозных микроотверстий в кремниевых пластинах. Показано, что наибольшая высота профиля стенок составляет 3.1?мкм на базовой длине 100?мкм. Исследована динамика формирования положительного клина травления на границе кремний-полиимид. Наиболее интенсивное травление происходит в центре микроотверстия, геометрические размеры клина (глубина, внешний диаметр и угол наклона) линейно возрастают пропорционально количеству циклов травления. Экспериментально исследован элементный состав поверхности микроотверстий после их формирования, а также после дополнительной обработки. Показано, что последовательное удаление полиимида в плазме кислорода и алюминия в жидком травителе не приводит к загрязнению поверхности микроотверстий.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.