Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «Влияние процесса токовой нейтрализации и многократного кулоновского рассеяния на пространственную динамику резистивной перетяжечной неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омической плазме, "Журнал технической физики"»

Авторы:
  • Колесников Е.К.1
  • Клюшников Г.Н.2
  • Чернов С.В.3
  • Мануйлов А.С.4
  • Петров В.С.5
стр. 938-941
Платно
1 Санкт-Петербургский государственный университет, 2 Санкт-Петербургский государственный университет, 3 Астрокосмический центр, Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН, Москва, Россия, 4 Санкт-Петербургский государственный университет, 5 Северо-Кавказский зональный научно-исследовательский институт садоводства и виноградарства
Аннотация:
Рассмотрено влияние процесса токовой нейтрализации, фазового перемешивания траекторий электронов и многократного кулоновского рассеяния электронов пучка на атомах фоновой среды на пространственный инкремент нарастания резистивной перетяжечной неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омическом плазменном канале. Показано, что усиление токовой нейтрализации приводит к существенному росту данной неустойчивости, а фазовое перемешивание и процесс многократного рассеяния электронов пучка на атомах фоновой среды являются стабилизирующими фактором.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.