Статья «ВЛИЯНИЕ ОТЖИГА НА СТРУКТУРНЫЕ, ОПТИЧЕСКИЕ, ЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ И ТЕРМОЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПЛЕНОК ZnO, ВЫРАЩЕННЫХ МЕТОДОМ МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ, "Журнал экспериментальной и теоретической физики"»

Описано влияние отжига на структурные, оптические, электрические и термоэлектрические свойства пленок ZnO, выращенных на кремниевой подложке методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Часть выращенных образцов ZnO отжигалась в течение одного часа в программируемой печи в атмосфере кислорода при T = 500-800°С, а другая часть образцов - в другом окружении (вакуум, кислород, пары цинка, а также последовательно в вакууме и в парах цинка) при T = 600°С. По данным рентгеновской дифракции во всех отожженных образцах имеется сильный дифракционный пик, относящийся к плоскости (002). Для образца, отожженного в атмосфере кислорода, ширина этого пика уменьшалась и размер кристаллита увеличивался, а при отжиге образцов в парах цинка, в вакууме или при последовательном отжиге в вакууме и парах цинка ширина увеличивалась. Спектры фотолюминесценции показывают, что с ростом температуры отжига в атмосфере кислорода интенсивность краевого излучения увеличивалась, а излучение от дефектов уменьшалось, в то время как при отжиге в другом окружении эта интенсивность уменьшалась. Предположительно, отжиг в атмосфере кислорода компенсирует кислородные вакансии, в то время как отжиг в парах цинка и в вакууме приводит к образованию новых вакансий. Измерения эффектов Холла и Зеебека также согласуются с этими выводами.