Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «ИМПЕДАНС NiSi-ЭЛЕКТРОДА В СЕРНОЙ КИСЛОТЕ В ОБЛАСТИ АКТИВНОГО АНОДНОГО РАСТВОРЕНИЯ, "Физикохимия поверхности и защита материалов"»

Авторы:
  • Пантелеева В.В.1
  • Шеин А.Б.2
  • Кичигин В.И.3
стр. 533-
Платно
1 Пермский государственный национальный исследовательский университет, Россия, 614990, Пермь, ул. Букирева, 15, 2 Пермский государственный университет Россия, 614990, Пермь, ул. Букирева, 15, 3 Пермский государственный университет Россия, 614990, Пермь, ул. Букирева, 15
Аннотация:
Изучено анодное поведение NiSi-электрода в 0.5 М Н<sub>2</sub>SO<sub>4</sub> в области потенциалов активного растворения. На основании импедансных данных сделан вывод, что при невысоких анодных поляризациях (до <img src="/ItemImages/1134808/20147927/FO_2_1.gif" align=absmiddle border=0> 0.15 В) имеет место селективное растворение никеля из силицида никеля. Оценены значения коэффициента диффузии никеля в твердой фазе и толщины диффузионной зоны.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.