Статья «ОСОБЕННОСТИ СТРУКТУРНЫХ ИЗМЕНЕНИЙ ПОВЕРХНОСТИ СТЕКЛА К-208 ПРИ ЭЛЕКТРОННО-ПРОТОННОМ ОБЛУЧЕНИИ, "Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования"»

Методами атомно-силовой микроскопии исследованы изменения структуры поверхности стекла К-208 после одновременного воздействия на его образцы электронов и протонов с энергией 20 кэВ. Облучение проводилось в вакуумной камере при давлении 10-4 Па, плотности потоков электронов ?e и протонов ?р варьировались в диапазоне 1010-2.5 ? ? 1011 см-2·с-1. Анализ образцов, облученных при пошаговом увеличении параметров ?e и ?р, позволил изучить появление, рост и эволюцию на их поверхностях микроскопических структур. Радиационно-стимулированные процессы отжига дефектов, освобождение и полевая диффузия ионов щелочных металлов сопровождаются кристаллизацией облучаемого слоя стекла, что дает основание использовать дислокационные механизмы переноса массы для объяснения образования микровыступов на его поверхности. Показано, что характер структурных изменений определяется значениями и соотношением параметров ?e и ?р. В частности установлено, что в случае электронно-протонного облучения стекла электростатические разряды начинают оказывать заметное влияние на формирование микровыступов при значениях ?е > 3?р.