Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «ИССЛЕДОВАНИЕ МИКРОСТРУКТУРЫ СЛОЕВ КРЕМНИЯ-НА-САПФИРЕ ПОСЛЕ ИМПЛАНТАЦИИ He+ И ПОСЛЕДУЮЩЕЙ ТЕРМООБРАБОТКИ, "Кристаллография"»

Авторы:
  • Чесноков Ю. М.1
  • Александров П.А.2
  • Белова Н.Е.3
  • Шемардов С. Г.4
  • Васильев А. Л.5
стр. 613-617
Платно
1 Национальный исследовательский центр “Курчатовский институт’’, 2 Федеральное государственное бюджетное учреждение “Национальный исследовательский центр “Курчатовский институт”, Москва, 3 Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", 4 Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", 5 Национальный исследовательский центр “Курчатовский институт’’
Аннотация:
Представлены результаты исследования влияния ионной имплантации He и последующего отжига на микроструктуру кремния-на-сапфире методами просвечивающей электронной микроскопии и рентгеновской дифрактометрии. Обнаружено, что имплантация ионов He приводит к формированию дефектов в слое Si и ?-AlO, а последующий отжиг - к диссоциации радиационных дефектов в Si и формированию наноразмерных пор в ?-AlO. Рассмотрено влияние дозы имплантированных ионов и температуры отжига на параметры пористого слоя a-AlO и структурное совершенство слоя Si.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.