Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «ЗАТРАВОЧНАЯ ПОЛИМЕРИЗАЦИЯ КАК МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ ПОЛЫХ МОНОДИСПЕРСНЫХ МИКРОСФЕР, "Коллоидный журнал"»

Авторы:
  • Шевченко Н.Н.1
  • Панкова Г.А.2
  • Евсеева Т.Г.3
  • Шабсельс Б.М.4
  • Меньшикова А.Ю.5
  • Шевалдышева Д.И.6
стр. 511-
Платно
1 Институт высокомолекулярных соединений Российской академии наук 199004 Санкт-Петербург, Большой пр., 31, 2 Институт высокомолекулярных соединений Российской академии наук 199004 Санкт-Петербург, Большой пр., 31, 3 Институт высокомолекулярных соединений Российской академии наук 199004 Санкт-Петербург, Большой пр., 31, 4 Институт высокомолекулярных соединений Российской академии наук 199004 Санкт-Петербург, Большой пр., 31, 5 Институт высокомолекулярных соединений Российской академии наук 199004 Санкт-Петербург, Большой пр., 31, 6 Институт высокомолекулярных соединений РАН 199004 Санкт-Петербург, Большой проспект, 31
Аннотация:
Методами одностадийной и двухстадийной затравочной сополимеризации стирола и/или метилметакрилата со сшивающими агентами ? диметакрилатом этиленгликоля или аллилметакрилатом ? синтезированы сшитые полые монодисперсные микросферы диаметром 1.9?5.9 мкм с однослойной или двухслойной оболочкой, слои которой различаются природой полимерной основы. Выявлены факторы, позволяющие регулировать морфологию и дисперсность формируемых микросфер. Показано, что при содержании на последней стадии в реакционной смеси 50 и более мас. % сшивающего агента полученные микросферы сохраняют размер и морфологию при выдерживании в толуоле и диметилформамиде.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.  

 

* - цена актуальна только для физических лиц
В т.ч. НДС 20%