Статья «ВЫРАЩИВАНИЕ НА КРИСТАЛЛАХ SrTiO3 ПЛЕНОК YBa2Cu3O7 С НАКЛОНОМ К ПОВЕРХНОСТИ CuO-ПЛОСКОСТЕЙ, РАЗВЕРНУТЫХ ВОКРУГ ОСИ [110], "Кристаллография"»

Лазерным импульсным осаждением на подложках из кристаллов SrTiO₃ выращены пленки YBa₂Cu₃O₇ с наклоном CuO-плоскости по отношению к поверхности. Вращение кристаллической решетки пленки при таком наклонении осуществлялось за счет поворота относительно поверхности подложки вокруг ее оси [110], ориентированной параллельно поверхности. При этом нулевой наклон CuO-плоскости реализовывался при ориентации поверхности кристалла SrTiO₃ параллельно плоскости (100). Углы поворота варьировались в диапазоне от 0° до 70°. Установлено, что CuO-плоскости пленки при любых величинах углов наклона остаются параллельными одной или нескольким кристаллографическим плоскостям подложки типа (100). В диапазоне углов наклона от 0° до 49° пленка имеет монокристаллическое строение. При превышении 49° пленка трансформируется в трехдоменную текстуру, а шероховатость ее поверхности резко возрастает.