Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «ЛАЗЕРНО-ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК ЭУФ-ИЗЛУЧЕНИЯ ДЛЯ ПРОЕКЦИОННОЙ НАНОЛИТОГРАФИИ, "Известия Российской академии наук. Серия физическая"»

Авторы:
  • Зуев С.Ю.1
  • Пестов А.Е.2
  • Салащенко Н.Н.3
  • Торопов М.Н.4
  • Чхало Н.И.5
  • Щербаков А.В.6
стр. 9-
Платно
1 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики микроструктур Российской академии наук (ИФМ РАН) Нижегородская область, Кстовский район, д. Афонино, 2 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики микроструктур Российской академии наук (ИФМ РАН), 3 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики микроструктур Российской академии наук (ИФМ РАН), 4 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики микроструктур Российской академии наук (ИФМ РАН), 5 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики микроструктур Российской академии наук (ИФМ РАН), 6 Всероссийский научно-исследовательский институт сельскохозяйственной микробиологии
Аннотация:
Сообщается о лабораторном источнике экстремального ультрафиолетового излучения на основе лазерной плазмы, оптимизированном для применения в исследовательском стенде нанолитографии на длине волны 13.5 нм. Приводятся основные технические характеристики источника. При работе с молибденовой мишенью измеренный коэффициент конверсии энергии лазерного излучения в излучение с центральной длиной волны 13.5 нм в полупространство и в 2%-ной спектральной полосе составил 0.03%.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.