Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «Поверхностное наноструктурирование в системе углеродкремний (100) при микроволновой плазменной обработке, "Физика и техника полупроводников"»

Авторы:
  • Яфаров Р.К.1
  • Шаныгин В.Я.2
стр. 558-562
Платно
1 Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова Российской АН, 2 Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова Российской АН
Аннотация:
Рассмотрены физико-химические процессы и механизмы влияния плазменной подготовки поверхности на закономерности конденсации и поверхностные фазовые превращения при формировании масковых кремний- углеродных доменов на кристаллах кремния (100) p-типа при осаждении субмонослойных углеродных покрытий в СВЧ-плазме паров этанола низкого давления. Показано, что при кратковременных длительностях осаждения углерода на кремниевые пластины с естественным оксидным покрытием при температуре 100° C наблюдается формирование доменов с латеральными размерами от 10-15 до 200нм, а высоты выступов, полученных плазмохимическим травлением кремния через доменные масковые покрытия, изменяются в интервале от 40 до 80 нм.

Архивные статьи (2015 год и ранее) доступны для ознакомления бесплатно, для скачивания их необходимо приобрести. Для просмотра материалов необходимо зарегистрироваться и авторизоваться на сайте.

Чтобы приобрести доступ к материалу для юридического лица, пожалуйста, свяжитесь с администрацией портала с помощью формы обратной связи либо по электронному адресу libnauka@naukaran.com.  

Действия с материалами доступны только авторизованным пользователям.