Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «ОПЫТ ПРОЕКТИРОВАНИЯ ДИЗАЙНА И ИЗГОТОВЛЕНИЯ СЛОЖНЫХ ПРЕЦИЗИОННЫХ ФОТОШАБЛОНОВ С ЭЛЕМЕНТАМИ КОМПЕНСАЦИИ ОПТИЧЕСКОЙ БЛИЗОСТИ ОРС (OPTICAL PROXIMITY CORRECTION), "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"»

Авторы:
  • Беленков А.Н.1
  • Овчинников В.А.2
  • Морозов С.И.3
  • Хрущев Н.С.4
стр. 45-50
Платно
1 АО «ЗИТЦ», 2 АО «ЗИТЦ», 3 АО «ЗИТЦ», 4 АО «ЗИТЦ»
Аннотация:
В работе представлен опыт разработки технологий проектирования дизайна и изготовления фотошаблона с элементами компенсации эффектов оптической близости ОРС (Optical Proximity Correction) для производства ИС с проектными нормами 130 нм с применением техники повышения разрешения RET (Reticle Enhancement Technique). Корректность разработанных технологий подтверждена результатами контроля сложных фотошаблонов с элементами коррекции эффектов оптической близости ОРС.
Пожалуйста, авторизуйтесь, чтобы получить бесплатный доступ к статье.