Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «ОПЫТ КОРРЕКЦИИ ЭФФЕКТОВ БЛИЗОСТИ ПРИ ФОРМИРОВАНИИ ИЗОБРАЖЕНИЯ ТОПОЛОГИЧЕСКОГО РИСУНКА ИС НА ФОТОШАБЛОНЕ МЕТОДОМ ЭЛЕКТРОННОЙ ЛИТОГРАФИИ, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"»

Авторы:
  • Беленков А.Н.1
  • Овчинников В.А.2
  • Морозов С.И.3
  • Хрущев Н.С.4
стр. 35-39
Платно
1 АО «ЗИТЦ», 2 АО «ЗИТЦ», 3 АО «ЗИТЦ», 4 АО «ЗИТЦ»
Аннотация:
Представлен опыт разработки технологии проектирования дизайна фотошаблона, основного инструмента литографического процесса, с целью обеспечения геометрической формы топологических элементов, максимально приближенной к проектным данным.
Пожалуйста, авторизуйтесь, чтобы получить бесплатный доступ к статье.