Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста
Войти / Регистрация
Корзина

  • Ваша корзина пуста

Статья «МОДЕЛИРОВАНИЕ ТОПОЛОГИЧЕСКОЙ НЕРАВНОМЕРНОСТИ СЛОЕВ, ОСАЖДАЕМЫХ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ НА МИКРОРЕЛЬЕФНУЮ ПОДЛОЖКУ, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"»

Авторы:
  • Евдокимов В.Л.1
стр. 47-53
Платно
1 АО «НИИМЭ»
Аннотация:
Предложена модель формирования профиля слоев в траншее и на гребенчатой структуре кристаллов субмикронных интегральных схем. Модель учитывает скорость поверхностной диффузии адсорбированного реагента в соотношении со скоростью его превращения в конечный продукт. Дано уравнение показателя конформности, аппроксимирующее для различных типов слоев зависимость от энергии активации химической реакции и температуры осаждения. Представлены аналитические выражения и оценки профилей для одиночной траншеи и регулярной рельефной структуры, учитывающие эффект загрузки и геометрический фактор доставки реагента.
Пожалуйста, авторизуйтесь, чтобы получить бесплатный доступ к статье.